\n\n\n平面抛光机自动抛光机的主要目的是提高抛光率，可以减少磨削过程中产生的层损。如果率很高，抛光损伤层不会造成东莞全自动抛光机组织错误，也不会影响观察到的材料组织。如果采用粗磨，可以起到去除磨削损伤层的作用，但也有负面影响。 会加深抛光层的损坏。超精密双面抛光加工工艺设备，包括抛光后双面抛光机、点检测及过程控制设备、自动研磨抛光设备、清洗设备、废料处理及检测设备等，耗材包括抛光垫抛光体液。超精密双面抛光工艺主要包括抛光、清洗和测量检测。 因此，超精密抛光系统包括很多变量：芯片本身变量、抛光液、抛光垫抛光机工艺变量等，超精密双面抛光工艺的三个关键参数是抛光机、抛光效果抛光垫抛光液的相互匹配和各自特性对工件表面质量的影响。 如果要使用更精细的研磨，可以大大降低抛光损伤层，但抛光速度。解决问题的主要方法是在抛光阶段，可以进行粗抛光，第一次磨损损伤层，然后进行抛光，去除对抛光层的损伤。抛光机是全自动的。所以不要紧张地加快速度，同时也减少了受伤的影响。平面抛光机使用比较简单，抛光过程是自动化的。